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광개시제를 포함하는 반도체장치 제조용 폴리메틸 메타크릴레이트 레지스트 및 이를 이용한 양성 톤 포토리소그래피공정Positive tone photolithography process with polymethyl methacrylate resist containing a photoinitiator for manufacturing semiconductor devices
- Alternative Title
- Positive tone photolithography process with polymethyl methacrylate resist containing a photoinitiator for manufacturing semiconductor devices
- Abstract
- 본 발명은 광개시제를 포함하는 반도체장치 제조용 폴리메틸 메타크릴레이트 레지스트를 이용한 양성 톤 포토리소그래피 공정에 관련된 것으로, 공정조건 중 소프트베이크 시간을 일정 시간까지 늘려줌으로써 양성 톤 포토리소그래피를 구현하는 포토리소그래피 공정 방법을 제시한다.
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Related Researcher
- Kim, Hyun Seok
- College of Engineering (Department of Electronics and Electrical Engineering)