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광개시제를 포함하는 반도체장치 제조용 폴리메틸 메타크릴레이트 레지스트 및 이를 이용한 양성 톤 포토리소그래피공정
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| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김현석 | - |
| dc.contributor.author | 김남균 | - |
| dc.contributor.author | 김선준 | - |
| dc.contributor.author | 이상훈 | - |
| dc.contributor.author | 이재성 | - |
| dc.date.accessioned | 2025-09-09T09:33:40Z | - |
| dc.date.available | 2025-09-09T09:33:40Z | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.dongguk.edu/handle/sw.dongguk/61132 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 광개시제를 포함하는 반도체장치 제조용 폴리메틸 메타크릴레이트 레지스트를 이용한 양성 톤 포토리소그래피 공정에 관련된 것으로, 공정조건 중 소프트베이크 시간을 일정 시간까지 늘려줌으로써 양성 톤 포토리소그래피를 구현하는 포토리소그래피 공정 방법을 제시한다. | - |
| dc.title | 광개시제를 포함하는 반도체장치 제조용 폴리메틸 메타크릴레이트 레지스트 및 이를 이용한 양성 톤 포토리소그래피공정 | - |
| dc.title.alternative | Positive tone photolithography process with polymethyl methacrylate resist containing a photoinitiator for manufacturing semiconductor devices | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.publisher.location | 대한민국 | - |
| dc.contributor.assignee | 동국대학교산학협력단 | - |
| dc.date.application | 2020-11-11 | - |
| dc.date.registration | 2023-12-14 | - |
| dc.type.iprs | 특허 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2615655 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2020-0149861 | - |
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Related Researcher
- Kim, Hyun Seok
- College of Engineering (Department of Electronics and Electrical Engineering)