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탄소나노튜브 층간층, 이의 제조방법 및 이를 이용한 박막트랜지스터

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dc.contributor.author노용영-
dc.date.accessioned2025-09-09T07:32:20Z-
dc.date.available2025-09-09T07:32:20Z-
dc.identifier.urihttps://scholarworks.dongguk.edu/handle/sw.dongguk/59839-
dc.description.abstract본 발명의 목적은 전극과 반도체층 사이의 트랩이 줄어들게 하여 소자의 성능이 향상시킬 수 있는 박막트랜지스터를 제공하는 데 있다. 본 발명의 다른 목적은 전극과 반도체성 사이에 접촉저항을 낮출 수 있는 박막트랜지스터를 제공하는 데 있다. 본 발명의 또 다른 목적은 p타입 특성 및 n타입 특성이 모두 잘 나올 수 있는 좋은 성능의 박막트랜지스터를 제공하는 데 있다.-
dc.title탄소나노튜브 층간층, 이의 제조방법 및 이를 이용한 박막트랜지스터-
dc.title.alternativeCNT interlayer, Prparing thereof and Thin-film transistor using the same-
dc.typePatent-
dc.publisher.location대한민국-
dc.contributor.assignee㈜나노웨어러블-
dc.date.application2014-05-14-
dc.date.registration2015-12-09-
dc.type.iprs특허-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1577896-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2014-0057719-
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