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초록
본 발명은 웨이퍼상 3차원 구조를 가지고 패턴화 된 3차원 반도체 구조의 결함을 분석하는 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 평면 또는 3차원 구조를 가지고 패턴화 된 반도체 구조체에 대하여 다양한 파장 및 각도로 입사 된 펨토초 레이저에 의해 광 여기된 캐리어의 결함 밀도에 따른 재결합 시상수 변화를 테라헤르츠의 투과율 또는 반사율로 분석하여 평면 및 3차원 구조로 패턴화된 반도체 구조체 내에서의 결함의 밀도 및 밀도의 공간적 분포를 분석하는 방법이다.
- 제목
- 펨토초 레이저를 이용한 광 펌프 및 테라헤르츠파의 투과 및 반사의 시분해 측정을 이용한 반도체의 결함의 공간분포를 분석하는 장치 및 방법
- 제목 (타언어)
- Equipment and method for analyzing spatial distribution of semiconductor defects using time-resolved measurement of transmission and reflection of optical pumps and THz using fs-lasers
- 저자
- 조만호; 김종훈; 정광식
- 발행일
- 2025-02-04
- 출원번호
- 10-2022-0013501
- 등록번호
- 10-2764674
- 출원일
- 2022-01-28
- 등록일
- 2025-02-04