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광개시제를 포함하는 반도체장치 제조용 폴리메틸 메타크릴레이트 레지스트 및 이를 이용한 양성 톤 포토리소그래피공정
Positive tone photolithography process with polymethyl methacrylate resist containing a photoinitiator for manufacturing semiconductor devices
- 김현석;
- 김남균;
- 김선준;
- 이상훈;
- 이재성
초록
본 발명은 광개시제를 포함하는 반도체장치 제조용 폴리메틸 메타크릴레이트 레지스트를 이용한 양성 톤 포토리소그래피 공정에 관련된 것으로, 공정조건 중 소프트베이크 시간을 일정 시간까지 늘려줌으로써 양성 톤 포토리소그래피를 구현하는 포토리소그래피 공정 방법을 제시한다.
- 제목
- 광개시제를 포함하는 반도체장치 제조용 폴리메틸 메타크릴레이트 레지스트 및 이를 이용한 양성 톤 포토리소그래피공정
- 제목 (타언어)
- Positive tone photolithography process with polymethyl methacrylate resist containing a photoinitiator for manufacturing semiconductor devices
- 저자
- 김현석; 김남균; 김선준; 이상훈; 이재성
- 발행일
- 2023-12-14
- 출원번호
- 10-2020-0149861
- 등록번호
- 10-2615655
- 출원일
- 2020-11-11
- 등록일
- 2023-12-14